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乾蝕刻方法、乾蝕刻氣體及全氟-２-戊炔之製法

日本傑恩股份有限公司

申請案號
092119395
公告號
200405461
申請日期
2003-07-16
申請人
日本傑恩股份有限公司
發明人
山田俊郎
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/3065
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乾蝕刻方法、乾蝕刻氣體及全氟-２-戊炔之製法 - 專利資訊 | NowTo 智財通