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專利資訊
氧化膜形成方法、氧化膜形成裝置及電子元件材料
東京威力科創股份有限公司
申請案號
092119414
公告號
200414355
申請日期
2003-07-16
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
北川淳一
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/316
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