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金屬有機化學氣相沈積法以及氧氮化金屬和氧氮化金屬矽之原子層沈積

艾斯摩美國股份有限公司

申請案號
092119583
公告號
200404911
申請日期
2003-07-17
申請人
艾斯摩美國股份有限公司
發明人
千崎佳秀
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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金屬有機化學氣相沈積法以及氧氮化金屬和氧氮化金屬矽之原子層沈積 - 專利資訊 | NowTo 智財通