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具有ＳＯＩ區域與塊狀區域之半導體裝置及其製造方法

東芝股份有限公司

申請案號
092122601
公告號
200404366
申請日期
2003-08-18
申請人
東芝股份有限公司
發明人
東篤志
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L27/12
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具有ＳＯＩ區域與塊狀區域之半導體裝置及其製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通