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用以改良淺溝槽隔離區步階均勻性之淺溝槽隔離區形成方法

南亞科技股份有限公司

申請案號
092123245
公告號
200509293
申請日期
2003-08-25
申請人
南亞科技股份有限公司
發明人
郝中蓬
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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用以改良淺溝槽隔離區步階均勻性之淺溝槽隔離區形成方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通