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專利資訊
內層介電層之製作方法及防止形成接觸窗蝕刻缺陷之方法
南亞科技股份有限公司
申請案號
092124302
公告號
200511483
申請日期
2003-09-03
申請人
南亞科技股份有限公司
發明人
鄒侃儒
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/76
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