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專利資訊
半導體積體電路用絕緣膜研磨劑組成物及半導體積體電路之製造方法
清美化學股份有限公司
申請案號
092124653
公告號
200406484
申請日期
2003-09-05
申請人
清美化學股份有限公司
發明人
真丸幸惠
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C09K3/14
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