IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
電介體膜及其形成方法,以及使用電介體膜之半導體裝置及其製造方法
液晶先端技術開發中心股份有限公司
申請案號
092124712
公告號
200410297
申請日期
2003-09-08
申請人
液晶先端技術開發中心股份有限公司
發明人
後藤真志
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/00
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
電介體膜及其形成方法,以及使用電介體膜之半導體裝置及其製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通