IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
利用兩親性非離子界面活性劑之化學機械拋光法
美商CMC材料股份有限公司
申請案號
092128150
公告號
200420697
申請日期
2003-10-09
申請人
美商CMC材料股份有限公司
發明人
凱文J 默艾格柏格
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C09G1/02
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
利用兩親性非離子界面活性劑之化學機械拋光法 - 專利資訊 | NowTo 智財通