IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
用於金屬薄膜之原子層沉積的程序
氣體產品及化學品股份公司
申請案號
092130333
公告號
200408007
申請日期
2003-10-30
申請人
氣體產品及化學品股份公司
發明人
約翰 安東尼 湯馬士 諾門
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/3205
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
用於金屬薄膜之原子層沉積的程序 - 專利資訊 | NowTo 智財通