IPC H01L21/3205 專利列表
共 56 筆結果
半導體裝置及其製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0931055022004-03-03IPC H01L21/3205
半導體裝置及其製造方法
新力股份有限公司
案號 0931043392004-02-20IPC H01L21/3205
補償式高階波板之使用及製造方法及設備
照明家系統股份有限公司
案號 0931037742004-02-17IPC H01L21/3205
配線的製作方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0931024242004-02-03IPC H01L21/3205
半導體裝置及其製造方法
瑞薩電子股份有限公司
案號 0931011542004-01-16IPC H01L21/3205
增加金屬-絕緣體-金屬電容器之單位面積電容密度的方法
中芯國際集成電路製造（上海）有限公司
案號 0921373352003-12-29IPC H01L21/3205
形成貫穿電極的方法及具有貫穿電極的基材
藤倉股份有限公司
案號 0921358182003-12-17IPC H01L21/3205
半導體裝置及半導體裝置之製造方法
日商鎧俠股份有限公司
案號 0921341662003-12-04IPC H01L21/3205
利用先橋式金屬化製造程序之強固超低介電常數內連線結構
英屬開曼群島商格芯公司
案號 0921335062003-11-28IPC H01L21/3205
形成半導體裝置中裝置隔離膜之方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0921331772003-11-26IPC H01L21/3205
製作阻障層之方法
力晶積成電子製造股份有限公司
案號 0921322992003-11-18IPC H01L21/3205
形成介電層之間黏著力的方法與結構
聯華電子股份有限公司
案號 0921320462003-11-14IPC H01L21/3205
半導體電阻元件及其製造方法
上海宏力半導體製造有限公司
案號 0921308002003-11-04IPC H01L21/3205
用於金屬薄膜之原子層沉積的程序
氣體產品及化學品股份公司
案號 0921303332003-10-30IPC H01L21/3205
在多層之半導體結構中形成對準帽蓋金屬線及內連線
萬國商業機器公司
案號 0921302212003-10-30IPC H01L21/3205
半導體元件及其製法
富士通股份有限公司
案號 0921300672003-10-29IPC H01L21/3205
半導體元件
特利尼提半導體諮詢有限公司
案號 0921294682003-10-23IPC H01L21/3205
在金屬層上形成蓋之方法和裝置
英特爾股份有限公司
案號 0921285982003-10-15IPC H01L21/3205
形成光電元件之方法
洲磊科技股份有限公司
案號 0921274732003-10-03IPC H01L21/3205
包括ＭＩＭ電容之積體電路裝置
三星電子股份有限公司
案號 0921273802003-10-03IPC H01L21/3205