IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
具有樞軸機構之可垂直調整的化學機械拋光研磨頭及其使用方法
艾柏拉科技有限公司
申請案號
092130611
公告號
200414972
申請日期
2003-11-03
申請人
艾柏拉科技有限公司
發明人
櫻井邦彥
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
B24B7/00
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
具有樞軸機構之可垂直調整的化學機械拋光研磨頭及其使用方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通