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具有樞軸機構之可垂直調整的化學機械拋光研磨頭及其使用方法

艾柏拉科技有限公司

申請案號
092130611
公告號
200414972
申請日期
2003-11-03
申請人
艾柏拉科技有限公司
發明人
櫻井邦彥
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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