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專利資訊
用於蝕刻在氮化物層上方之氧化物層之氧化物蝕刻方法
應用材料股份有限公司
申請案號
092130620
公告號
200405467
申請日期
1999-11-16
申請人
應用材料股份有限公司
發明人
洪厚曼
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/3065
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