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在金屬層蝕刻後之移除光阻的方法

上海宏力半導體製造有限公司

申請案號
092130786
公告號
200516657
申請日期
2003-11-04
申請人
上海宏力半導體製造有限公司
發明人
張雙燻
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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在金屬層蝕刻後之移除光阻的方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通