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專利資訊
用以形成多孔薄膜的組成物、多孔薄膜及其形成方法、層間絕緣膜以及半導體元件
信越化學工業股份有限公司
申請案號
092131712
公告號
200417586
申請日期
2003-11-12
申請人
信越化學工業股份有限公司
發明人
荻原勤
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C09D183/04
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