IPC C09D183/04 專利列表
共 15 筆結果
形成多孔膜之組成物、多孔膜和其形成方法、層間絕緣膜及半導體裝置
信越化學工業股份有限公司
案號 0931081452004-03-25IPC C09D183/04
形成多孔性膜的組成物及該組成物之製造方法，多孔性膜及形成彼之方法，層間絕緣膜及半導體裝置
信越化學工業股份有限公司
案號 0931062102004-03-09IPC C09D183/04
用以形成多孔薄膜的組成物、多孔薄膜及其形成方法、層間絕緣膜以及半導體元件
信越化學工業股份有限公司
案號 0921317122003-11-12IPC C09D183/04
沸石溶膠及其製備方法、用以形成多孔薄膜的組成物、多孔薄膜及其形成方法、層間絕緣膜以及半導體元件
信越化學工業股份有限公司
案號 0921317102003-11-12IPC C09D183/04
形成低介電常數非晶質矽石系被膜用塗覆液及該塗覆液之調製方法
日揮觸媒化成股份有限公司
案號 0921302722003-10-30IPC C09D183/04
具有改良表面性質之全氟彈性體物件
杜邦股份有限公司
案號 0921223662003-08-14IPC C09D183/04
塗佈用組成物
ＪＳＲ股份有限公司
案號 0921221582003-08-12IPC C09D183/04
塗敷用聚矽氧組成物及脫模薄片
信越化學工業股份有限公司
案號 0921202622003-07-24IPC C09D183/04
電子裝置之製造方法
希普列公司
案號 0921149932003-06-03IPC C09D183/04
適用於撓性電子及光電子學裝置之具有改良表面平滑度之塗佈聚合基材
杜邦泰金軟片有限合夥公司
案號 0921061692003-03-20IPC C09D183/04
具有光吸收塗層之光傳遞基材
皇家飛利浦電子股份有限公司
案號 0921013522003-01-22IPC C09D183/04
有機的抗反射塗佈組成物以及使用該組成物形成光阻圖案的方法
海力士半導體有限公司
案號 0911366852002-12-19IPC C09D183/04
利用多官能碳矽烷製備介電層之方法
拜耳廠股份有限公司
案號 0911364532002-12-18IPC C09D183/04
形成低折射率薄膜用塗佈組成物
旭化成股份有限公司
案號 0911361652002-12-13IPC C09D183/04
含有可水解的有機矽化合物之組成物及由彼獲得的塗層
住友化學工業股份有限公司
案號 0911327902002-11-07IPC C09D183/04