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高均勻性磁控濺鍍系統

財團法人金屬工業研究發展中心

申請案號
092131822
公告號
200516636
申請日期
2003-11-13
申請人
財團法人金屬工業研究發展中心
發明人
劉伍健
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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高均勻性磁控濺鍍系統 - 專利資訊 | NowTo 智財通