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磁控濺鍍系統之可變式靶源機構
財團法人金屬工業研究發展中心
申請案號
092131823
公告號
200516165
申請日期
2003-11-13
申請人
財團法人金屬工業研究發展中心
發明人
劉伍健
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C23C14/35
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