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專利資訊
利用離子佈植以薄化氧化層之領氧化層製程
茂德科技股份有限公司
申請案號
092131936
公告號
200516698
申請日期
2003-11-14
申請人
茂德科技股份有限公司
發明人
董明聖
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/76
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