IP

高密度電漿化學氣相沈積製程

華邦電子股份有限公司

申請案號
092132226
公告號
200517525
申請日期
2003-11-18
申請人
華邦電子股份有限公司
發明人
陳煒宗
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

高密度電漿化學氣相沈積製程 - 專利資訊 | NowTo 智財通