IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
利用氣體佈植在絕緣層上直接獲得應變矽之製程方法
劉致為
申請案號
092132759
公告號
200518220
申請日期
2003-11-21
申請人
劉致為
發明人
余承曄
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/31
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
利用氣體佈植在絕緣層上直接獲得應變矽之製程方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通