IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
由底層基材、抗反射膜與光阻膜所形成之光阻圖型形成用材料
東京應化工業股份有限公司
申請案號
092133905
公告號
200423225
申請日期
2003-12-02
申請人
東京應化工業股份有限公司
發明人
平山拓
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/027
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
由底層基材、抗反射膜與光阻膜所形成之光阻圖型形成用材料 - 專利資訊 | NowTo 智財通