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專利資訊
低壓化學氣相沉積設備中減少微粒的方法
上海宏力半導體製造有限公司
申請案號
092137431
公告號
200522163
申請日期
2003-12-30
申請人
上海宏力半導體製造有限公司
發明人
楊長興
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/205
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