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低壓化學氣相沉積設備中減少微粒的方法

上海宏力半導體製造有限公司

申請案號
092137431
公告號
200522163
申請日期
2003-12-30
申請人
上海宏力半導體製造有限公司
發明人
楊長興
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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低壓化學氣相沉積設備中減少微粒的方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通