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用以提供光學近似特徵至用於深度次波長光學微影蝕刻之初縮掩膜板圖樣之方法及裝置

ＡＳＭＬ荷蘭公司

申請案號
093100904
公告號
200500791
申請日期
2004-01-14
申請人
ＡＳＭＬ荷蘭公司
發明人
道格拉斯　范　德　柏肯
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

G03F1/08
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用以提供光學近似特徵至用於深度次波長光學微影蝕刻之初縮掩膜板圖樣之方法及裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通