IPC G03F1/08 專利列表
共 33 筆結果
交替鏡孔移相光罩、其製法及其用於製造半導體之方法
福昌公司
案號 0931068502004-03-15IPC G03F1/08
曝光罩幕及圖案曝光法
夏普股份有限公司
案號 0931065042004-03-11IPC G03F1/08
離子束加工方法
精工電子納米科技有限公司
案號 0931037832004-02-17IPC G03F1/08
光罩之補正方法
新力股份有限公司
案號 0931027992004-02-06IPC G03F1/08
曝光用光罩、其製造方法以及曝光方法
新力股份有限公司
案號 0931018692004-01-28IPC G03F1/08
光罩製作方法、光罩製作裝置、及光罩描畫裝置
大見忠弘
案號 0931018992004-01-28IPC G03F1/08
用以提供光學近似特徵至用於深度次波長光學微影蝕刻之初縮掩膜板圖樣之方法及裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931009042004-01-14IPC G03F1/08
圖案形成方法、電子元件製造方法、電子元件以及光罩
尼康股份有限公司
案號 0921369982003-12-26IPC G03F1/08
具有保護薄膜之光罩及其製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921351842003-12-12IPC G03F1/08
二次曝光的方法與製作減光式相位移光罩的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921343192003-12-05IPC G03F1/08
光罩毛胚及光罩
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921340112003-12-03IPC G03F1/08
光罩用空白基板及光罩之製造方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0921338942003-12-02IPC G03F1/08
決定微影投影參數之方法，用於該方法之電腦系統及電腦程式，製造裝置之方法及由其製造之裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921330732003-11-25IPC G03F1/08
光罩製程的最佳化方法、使用該最佳化方法的光罩製造方法及其所製造的光罩、以及使用該光罩之半導體製造裝置與該半導體裝置之製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921244382003-09-04IPC G03F1/08
具有中間檢查膜層之改良式光罩
福昌公司
案號 0921197272003-07-18IPC G03F1/08
光罩、電子裝置之製造方法及光罩之製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921189612003-07-11IPC G03F1/08
偏移相位遮罩，使用偏移相位遮罩之圖案形成方法，以及電子元件之製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921175412003-06-27IPC G03F1/08
中間色調相位移光罩空白基板及其製造方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0921174572003-06-26IPC G03F1/08
由可透光且具導電性的聚合物材料覆蓋之光罩
悠美瑟日本股份有限公司
案號 0921151892003-06-05IPC G03F1/08
半色調型移相光罩毛胚及半色調型移相光罩
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921096882003-04-25IPC G03F1/08