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在被處理基板上形成氮化矽膜之ＣＶＤ方法

東京威力科創股份有限公司

申請案號
093101622
公告號
200414317
申請日期
2004-01-20
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
加藤壽
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/205
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在被處理基板上形成氮化矽膜之ＣＶＤ方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通