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使用臭氧處理半導體晶圓表面的設備及方法

諾伐研究股份有限公司

申請案號
093101689
公告號
200416803
申請日期
2004-01-27
申請人
諾伐研究股份有限公司
發明人
鍾英圭
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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使用臭氧處理半導體晶圓表面的設備及方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通