IP

於一晶圓軌道環境中以電漿處理室處理半導體晶圓之方法及裝置

ＡＳＭＬ控股公司

申請案號
093102804
公告號
200503051
申請日期
2004-02-06
申請人
ＡＳＭＬ控股公司
發明人
羅伯特Ｐ　曼戴爾
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/00
查看申請人公司資訊

本站使用 Cookie 進行流量分析，以提供更好的使用體驗。

於一晶圓軌道環境中以電漿處理室處理半導體晶圓之方法及裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通