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透過補償氮不均勻性形成氧化物／氮化物層疊之方法

高級微裝置公司

申請案號
093103873
公告號
200421492
申請日期
2004-02-18
申請人
高級微裝置公司
發明人
威斯妥　卡斯汀
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/336
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透過補償氮不均勻性形成氧化物／氮化物層疊之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通