IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
使用矽氧烷形成二氧化矽膜之方法
三星電子股份有限公司
申請案號
093104720
公告號
200424346
申請日期
2004-02-25
申請人
三星電子股份有限公司
發明人
朴哉彥
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C23C16/44
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
使用矽氧烷形成二氧化矽膜之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通