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用於奈米電子元件之具有改良機械與電子性質的調整/複合化學氣相沉積低K(介電常數)膜

應用材料股份有限公司

申請案號
093105610
公告號
200423233
申請日期
2004-03-03
申請人
應用材料股份有限公司
發明人
尚樊蓋葉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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用於奈米電子元件之具有改良機械與電子性質的調整/複合化學氣相沉積低K(介電常數)膜 - 專利資訊 | NowTo 智財通