IP

形成多孔性膜用之組成物、多孔性膜及其製法、內絕緣膜、及半導體裝置

信越化學工業股份有限公司

申請案號
093106198
公告號
200428526
申請日期
2004-03-09
申請人
信越化學工業股份有限公司
發明人
荻原勤
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

形成多孔性膜用之組成物、多孔性膜及其製法、內絕緣膜、及半導體裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通