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專利資訊
薄膜形成裝置之洗淨方法
東京威力科創股份有限公司
申請案號
093107967
公告號
200501241
申請日期
2004-03-24
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
長谷部一秀
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/205
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