IPC C09K3/14 專利列表
共 62 筆結果
金屬磨蝕劑組成物及拋光方法
住友化學工業股份有限公司
案號 0921309582003-11-05IPC C09K3/14
化學機械拋光用水性分散液、化學機械拋光法、半導體裝置製造方法及用於製備化學機械拋光用水性分散液之材料
ＪＳＲ股份有限公司
案號 0921302742003-10-30IPC C09K3/14
金屬研磨組成物、金屬膜之研磨方法及基板之製法
昭和電工股份有限公司
案號 0921300392003-10-29IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0921291642003-10-21IPC C09K3/14
研磨組合物
福吉米股份有限公司
案號 0921269552003-09-30IPC C09K3/14
研磨組合物
福吉米股份有限公司
案號 0921269542003-09-30IPC C09K3/14
研磨劑組成物、其製造方法及研磨方法
旭硝子股份有限公司
案號 0921265092003-09-25IPC C09K3/14
半導體積體電路用絕緣膜研磨劑組成物及半導體積體電路之製造方法
清美化學股份有限公司
案號 0921246532003-09-05IPC C09K3/14
從微電子基材上以化學式、機械式及／或電解式移除材料之方法及裝置
美光科技公司
案號 0921239912003-08-29IPC C09K3/14
半導體裝置之研磨劑及使用研磨劑之半導體裝置之製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921219902003-08-11IPC C09K3/14
ＣＭＰ研磨劑以及基板的研磨方法
日立化成工業股份有限公司
案號 0921213442003-08-05IPC C09K3/14
化學機械研磨用之研漿
日商瑞薩電子股份有限公司
案號 0921211152003-08-01IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0921211532003-08-01IPC C09K3/14
研磨銅基金屬用之研漿
日商瑞薩電子股份有限公司
案號 0921211182003-08-01IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0921206872003-07-29IPC C09K3/14
用於氧化膜之化學機械研磨漿料及使用該漿料以形成金屬線接觸插塞之方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0921178132003-06-30IPC C09K3/14
鉑之化學機械研磨溶液
海力士半導體股份有限公司
案號 0921165432003-06-18IPC C09K3/14
金屬用研磨液以及研磨方法
日立化成工業股份有限公司
案號 0921159522003-06-12IPC C09K3/14
用於高精密度拋光之金屬氧化物粉末及其製備方法
三星康寧精密素材股份有限公司
案號 0921150472003-06-03IPC C09K3/14
研磨用組合物
福吉米股份有限公司
案號 0921148532003-05-30IPC C09K3/14