IPC H05H1/46 專利列表
共 19 筆結果
用於積體射頻（ＲＦ）產生器系統之校準及測量的方法及設備
應用科學及技術股份有限公司
案號 0931044342004-02-23IPC H05H1/46
電漿處理裝置
東京應化工業股份有限公司
案號 0931023182004-02-02IPC H05H1/46
電漿產生裝置、電漿控制方法及基板製造方法
獨立行政法人科學技術振興機構
案號 0921350002003-12-11IPC H05H1/46
匹配器，使用該匹配器的真空裝置，及真空處理方法
愛發科股份有限公司
案號 0921250972003-09-10IPC H05H1/46
電漿產生系統
馗鼎奈米科技股份有限公司
案號 0921196202003-07-18IPC H05H1/46
磁中性線放電電漿處理系統
愛發科股份有限公司
案號 0921157472003-06-10IPC H05H1/46
同步放電裝置
東京應化工業股份有限公司
案號 0921150772003-06-03IPC H05H1/46
電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921151052003-06-03IPC H05H1/46
電漿處理裝置及電漿處理方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921126842003-05-09IPC H05H1/46
電漿反應器中使用之碳化矽金屬陶瓷塗層
應用材料股份有限公司
案號 0921088472003-04-16IPC H05H1/46
電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921056302003-03-14IPC H05H1/46
包含電漿量測裝置之電漿設備
周星工程股份有限公司
案號 0921055552003-03-13IPC H05H1/46
電漿處理裝置及處理方法
日商日立全球先端科技股份有限公司
案號 0921037922003-02-24IPC H05H1/46
用於產生氣體電漿之方法與裝置、用於產生電漿之氣體組成物以及使用氣體組成物來製造半導體元件之方法
三星電子股份有限公司
案號 0921029932003-02-13IPC H05H1/46
電漿處理裝置及其控制方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0911361342002-12-13IPC H05H1/46
電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0911360992002-12-13IPC H05H1/46
電漿處理裝置
日商東京威力科創股份有限公司
案號 0911345142002-11-27IPC H05H1/46
感應耦合型電漿處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0911330552002-11-11IPC H05H1/46
電漿處理裝置
阿爾普士電氣股份有限公司
案號 0911329432002-11-08IPC H05H1/46