IPC G03F7/039 專利列表
共 60 筆結果
光阻組成物及使用其之光阻圖型之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0931083882004-03-26IPC G03F7/039
液浸曝光方法用光阻組成物及使用該光阻組成物形成光阻圖型之方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0931083802004-03-26IPC G03F7/039
感刺激化合物及含有它之感刺激組成物
富士軟片股份有限公司
案號 0931065802004-03-12IPC G03F7/039
感光性組成物，感光性著色組成物，彩色濾光片及液晶顯示裝置
三菱化學股份有限公司
案號 0931066572004-03-12IPC G03F7/039
增強化學性型之正型光阻組成物
東京應化工業股份有限公司
案號 0931065202004-03-11IPC G03F7/039
新穎的光敏性樹脂組成物（三）
富士軟片電子材料美國股份有限公司
案號 0931063712004-03-10IPC G03F7/039
酸感應性共聚物、正型感光性光阻組成物及由此而成之印刷電路板之製法
三井化學股份有限公司
案號 0931059992004-03-08IPC G03F7/039
在α位甲基上具有氧取代基之含脂環的甲基丙烯酸酯化合物
信越化學工業股份有限公司
案號 0931059642004-03-05IPC G03F7/039
聚合物及正型光阻組成物
東京應化工業股份有限公司
案號 0931052022004-02-27IPC G03F7/039
光阻組成物及光阻圖型之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0931048152004-02-25IPC G03F7/039
矽倍半氧烷樹脂，正型光阻組成物，光阻層合物及光阻圖型之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0931048042004-02-25IPC G03F7/039
新穎磺醯基重氮甲烷化合物，光酸產生劑及使用彼等之蝕刻材料及圖案形成方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0931033642004-02-12IPC G03F7/039
新穎磺醯基重氮甲烷化合物，光酸產生劑及使用其之光阻材料及圖案形成方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0931033712004-02-12IPC G03F7/039
感放射線性樹脂組成物、其製造方法及製造使用其之半導體裝置之方法
ＡＺ電子材料ＩＰ股份有限公司
案號 0931029932004-02-10IPC G03F7/039
磺酸酯、聚合物、光阻組成物及形成圖案之方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0931029512004-02-09IPC G03F7/039
聚合物，光阻組成物以及圖案形成的方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0931029542004-02-09IPC G03F7/039
光阻組成物
東京應化工業股份有限公司
案號 0931020282004-01-29IPC G03F7/039
光阻用粗樹脂之精製方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0931020202004-01-29IPC G03F7/039
高分子化合物，光阻材料及圖型之形成方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0931020262004-01-29IPC G03F7/039
電子材料用粗樹脂之精製方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0931016502004-01-20IPC G03F7/039