IPC G03F7/039 專利列表
共 60 筆結果
光阻劑組成物
三菱瓦斯化學股份有限公司
案號 0931011122004-01-16IPC G03F7/039
正型光阻組成物及光阻圖案形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921365772003-12-23IPC G03F7/039
光阻組成物及使用其之光阻圖案形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921364462003-12-22IPC G03F7/039
正型光阻組成物及圖型之形成方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0921362262003-12-19IPC G03F7/039
光阻圖案形成方法，正型光阻組成物及層合物
東京應化工業股份有限公司
案號 0921336162003-11-28IPC G03F7/039
光阻圖案形成方法及光阻圖案
東京應化工業股份有限公司
案號 0921337642003-11-28IPC G03F7/039
正型光阻組成物
東京應化工業股份有限公司
案號 0921336122003-11-28IPC G03F7/039
正型光阻組成物及使用其之圖案形成方法
富士軟片股份有限公司
案號 0921326622003-11-21IPC G03F7/039
放射線感應性樹脂組合物
日本傑恩股份有限公司
案號 0921322162003-11-18IPC G03F7/039
光阻組成物
旭硝子股份有限公司
案號 0921312872003-11-07IPC G03F7/039
輻射線感應樹脂組成物
ＪＳＲ股份有限公司
案號 0921299332003-10-28IPC G03F7/039
化學增幅正型光阻組合物
東京應化工業股份有限公司
案號 0921294502003-10-23IPC G03F7/039
正性光敏組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921288372003-10-17IPC G03F7/039
具羥基化光酸可解離基團之光阻劑
杜邦股份有限公司
案號 0921274412003-10-03IPC G03F7/039
光阻基材及其精製方法、以及光阻組成物
出光興產股份有限公司
案號 0921246592003-09-05IPC G03F7/039
曝光後特性改善的１９３奈米光阻劑
萬國商業機器公司
案號 0921245802003-09-05IPC G03F7/039
可見光感光性組成物
協和油化股份有限公司
案號 0921226992003-08-19IPC G03F7/039
正型光阻組成物及光阻圖案之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921225522003-08-15IPC G03F7/039
具均勻反應性正型光阻劑組成物及形成光阻圖樣之方法
財團法人工業技術研究院
案號 0921199222003-07-22IPC G03F7/039
層間絕緣膜用感光性組成物及圖案化層間絕緣膜之形成方法
ＡＺ電子材料股份有限公司
案號 0921194762003-07-17IPC G03F7/039