IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
曝光方法及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0921080722003-04-09IPC G03F7/20
點燈控制裝置及光照射裝置
牛尾電機股份有限公司
案號 0921079032003-04-07IPC G03F7/20
微影裝置、元件製造方法，及被製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921078912003-04-07IPC G03F7/20
投影光學系、曝光裝置、及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921076222003-04-03IPC G03F7/20
投影光學系統、曝光裝置及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921076122003-04-03IPC G03F7/20
消除密集圖案與單一圖案之關鍵尺寸偏差的方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921072522003-03-31IPC G03F7/20
曝光裝置及其製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921069792003-03-27IPC G03F7/20
載電射束曝光裝置、使用載電射束之曝光方法、載電射束之控制方法及半導體裝置之製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921069472003-03-27IPC G03F7/20
利用一空間倍頻技術界定光罩圖案之方法與裝置
ＡＳＭＬ遮蓋器具公司
案號 0921066212003-03-25IPC G03F7/20
監視方法、曝光方法、半導體裝置之製造方法、蝕刻方法及曝光處理裝置
東芝股份有限公司
案號 0921066412003-03-25IPC G03F7/20
光罩圖案補正方法、半導體裝置之製造方法、光罩製造方法及光罩
新力股份有限公司
案號 0921061852003-03-20IPC G03F7/20
用以照射感光基材之曝光裝置
柯達公司
案號 0921059102003-03-18IPC G03F7/20
微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921057832003-03-17IPC G03F7/20
投影光學系統、其製造方法、曝光裝置及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921057482003-03-17IPC G03F7/20
曝光裝置及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921055772003-03-14IPC G03F7/20
光罩、半導體裝置之製造方法及半導體裝置
新力股份有限公司
案號 0921054862003-03-13IPC G03F7/20
投影光學系統、曝光裝置及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921054622003-03-13IPC G03F7/20
微影裝置及裝置之製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921054882003-03-13IPC G03F7/20
淨化光學表面之方法與裝置
卡爾塞斯（ＳＭＴ）半導體製造科技公司
案號 0921053312003-03-12IPC G03F7/20
曝光條件決定系統
三菱電機股份有限公司
案號 0921050792003-03-10IPC G03F7/207