IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
位置偵測方法，表面形狀預估方法，曝光裝置及使用曝光裝置之裝置製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921048382003-03-06IPC G03F7/20
減小條紋極紫外線元件
康寧公司
案號 0921050462003-03-04IPC G03F7/20
光罩
富士通半導體股份有限公司
案號 0921039392003-02-25IPC G03F7/20
校正方法，校正基材，微影蝕刻裝置和組件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921039662003-02-24IPC G03F7/20
利用兩件式罩以保護光柵的系統及方法
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921035652003-02-20IPC G03F7/20
光刻裝置及其製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921026562003-02-10IPC G03F7/20
控制能量敏感層厚度分佈之方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921024892003-02-07IPC G03F7/20
惰性氣體清除法及設備、曝光設備、光罩貯藏器、光罩檢查設備、光罩轉移箱、及裝置之製造法
佳能股份有限公司
案號 0921022962003-01-30IPC G03F7/20
以低能量雷射光源製作大面積之石刻曝光系統
國防部中山科學研究院
案號 0921019042003-01-29IPC G03F7/20
曝光裝置
牛尾電機股份有限公司
案號 0921014962003-01-23IPC G03F7/20
在基材上製造高密度次黃光微影構形的方法
惠普公司
案號 0921010142003-01-17IPC G03F7/20
可抵減透鏡像差影響之微影方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921007612003-01-15IPC G03F7/20
曝光方法及裝置
液晶先端技術開發中心股份有限公司
案號 0921006652003-01-14IPC G03F7/20
曝光裝置及其用以製作彩色濾光片之方法
奇美電子股份有限公司
案號 0921007282003-01-14IPC G03F7/20
去除晶圓邊緣多餘光阻之曝光方法
宏捷科技股份有限公司
案號 0921005542003-01-10IPC G03F7/20
微影裝置及裝置製造之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911376932002-12-27IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911374852002-12-26IPC G03F7/20
投影校準器
賓得士股份有限公司
案號 0911373462002-12-25IPC G03F7/20
基板處理方法及基板處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0911371982002-12-24IPC G03F7/20
微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911366652002-12-19IPC G03F7/20