IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921152422003-06-05IPC G03F7/20
微影裝置及製造裝置之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921151282003-06-03IPC G03F7/20
用於組裝光學元件之零件套組、組裝光學元件之方法、光學元件、微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921145752003-05-29IPC G03F7/20
光罩支架之裝置
家登精密工業股份有限公司
案號 0921144562003-05-28IPC G03F7/20
曝光方法及曝光裝置
三榮技研股份有限公司
案號 0921141622003-05-26IPC G03F7/20
擴散反射板及其製造方法與鄰近曝光方法
住友化學工業股份有限公司
案號 0921139852003-05-23IPC G03F7/20
圖案描畫裝置及圖案描畫方法
斯克林集團公司
案號 0921134542003-05-19IPC G03F7/20
掃描曝光方法以及掃描曝光裝置
三榮技研股份有限公司
案號 0921130252003-05-14IPC G03F7/20
具有垂直於晶圓台之光罩台的反射折射微影系統及方法
艾斯摩控股股份有限公司
案號 0921126082003-05-08IPC G03F7/20
微影蝕刻裝置，裝置製造方法，執行測量方法，校正方法和計算機程式
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921125792003-05-08IPC G03F7/20
一種改良的曝光裝置及使用方法
德陽科技股份有限公司
案號 0921121292003-05-02IPC G03F7/20
曝光系統及方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921101362003-04-30IPC G03F7/20
將一圖案自一光罩轉移至一晶圓之裝置及方法
飛思卡爾半導體公司
案號 0921100152003-04-29IPC G03F7/20
曝光系統及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921095362003-04-24IPC G03F7/20
曝光設備及用其製造裝置的方法
佳能股份有限公司
案號 0921092492003-04-21IPC G03F7/20
曝光方法、曝光裝置及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921089052003-04-17IPC G03F7/20
沿一導引表面在X及Y方向將一物件驅動之驅動裝置，使用該驅動裝置之曝光裝置及使用該曝光裝置之元件製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921088352003-04-16IPC G03F7/20
圖案描畫裝置及圖案描畫方法
斯克林集團公司
案號 0921083522003-04-11IPC G03F7/20
照明光學裝置、曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921083372003-04-11IPC G03F7/20
投影曝光裝置、位置對準裝置以及位置對準方法
亞多特克工程股份有限公司
案號 0921083552003-04-11IPC G03F7/20