IPC G03F7/20 專利列表
共 243 筆結果
基體固定器及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921187232003-07-09IPC G03F7/20
微影系統的照明系統中所用的中繼透鏡
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921186202003-07-08IPC G03F7/207
具模製玻璃之數位微鏡裝置窗框之形成方法及裝置
德州儀器公司
案號 0921184652003-07-07IPC G03F7/20
微影設備及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921185002003-07-07IPC G03F7/20
處理網線之方法及裝置
億恆科技股份公司
案號 0921181342003-07-02IPC G03F7/20
光罩支撐裝置
奇美電子股份有限公司
案號 0921180382003-07-02IPC G03F7/20
光學微影術用渦流型相位移光罩
日商大日本印刷股份有限公司
案號 0921179312003-07-01IPC G03F7/20
電子束曝光方法及其裝置
和龍有限公司
案號 0921175502003-06-27IPC G03F7/20
掃描曝光裝置及方法
佳能股份有限公司
案號 0921174732003-06-26IPC G03F7/20
曝光量監視方法及半導體裝置之製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921173232003-06-25IPC G03F7/20
照明方法，曝光方法及其裝置
日商亞得科技工程有限公司
案號 0921171612003-06-24IPC G03F7/20
曝光用轉印光罩及其製造方法、曝光用轉印光罩之圖型轉換方法、電子線曝光裝置及使用其之曝光方法
歐克科技股份有限公司
案號 0921168702003-06-20IPC G03F7/20
反射鏡裝置，曝光裝置及裝置製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921168602003-06-20IPC G03F7/20
包含具有自組裝單層之光學元件之極紫外光微影投射裝置，具有自組裝單層之光學元件，應用自組裝單層之方法，裝置製作方法及其製作之裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921159872003-06-12IPC G03F7/20
微影裝置，元件製造方法，以及藉其製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921158412003-06-11IPC G03F7/20
曝光裝置、曝光方法及電子元件之製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921158152003-06-11IPC G03F7/20
使用於微影術之先進照明系統
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921157192003-06-10IPC G03F7/20
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921156742003-06-10IPC G03F7/20
微影裝置及製造元件之方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921156832003-06-10IPC G03F7/20
微影裝置，元件製造方法及由其製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921155352003-06-09IPC G03F7/20