IPC G03F7/42 專利列表
共 23 筆結果
用於去除銅相容光阻之合成物與方法
ＬＧ顯示器股份有限公司
案號 0921349182003-12-10IPC G03F7/42
微影術用沖洗液及使用其的光阻圖案形成方法
默克專利有限公司
案號 0921337792003-12-02IPC G03F7/42
微影成像用洗淨液及基板之處理方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921281722003-10-09IPC G03F7/42
形成雙道金屬鑲嵌構造之步驟中所用洗淨液及基板之處理方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921249192003-09-09IPC G03F7/42
利用水蒸氣作為離子植入後之阻劑剝除作業中供移除外殼、阻劑及殘留物用之處理氣體
蘭姆研究公司
案號 0921240412003-08-29IPC G03F7/42
剝離液
大金工業股份有限公司
案號 0921232112003-08-22IPC G03F7/42
光阻用剝離劑組合物及半導體裝置之製造方法
新力股份有限公司
案號 0921223752003-08-14IPC G03F7/42
抗蝕膜去除用清洗液及半導體裝置之製造方法
瑞薩電子股份有限公司
案號 0921189592003-07-11IPC G03F7/42
光阻劑剝離裝置
平間理化研究所股份有限公司
案號 0921162852003-06-16IPC G03F7/42
用於移除側壁殘餘物的組成物
ＢＡＳＦ股份有限公司
案號 0921162892003-06-16IPC G03F7/42
微電子洗淨及抗反射塗層去除劑組合物
艾萬拓有限責任公司
案號 0921142872003-05-27IPC G03F7/42
剝離液冷凝回收設備
友達光電股份有限公司
案號 0921132072003-05-15IPC G03F7/42
剝離光阻之方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921097582003-04-25IPC G03F7/42
光阻劑之剝離移除方法及裝置
財團法人激光技術總合研究所
案號 0921080882003-04-09IPC G03F7/42
光阻殘渣去除液組合物
關東化學股份有限公司
案號 0921058352003-03-17IPC G03F7/42
光阻剝離組成物及清潔組成物
三菱瓦斯化學股份有限公司
案號 0921048802003-03-07IPC G03F7/42
正型或負型光阻劑之清潔組成物
ＡＺ電子材料ＩＰ股份有限公司
案號 0921004622003-01-10IPC G03F7/42
水性溶離及清潔之組成物
氣體及化工產品公司
案號 0921002822003-01-08IPC G03F7/42
去光阻組成物以及用此之圖案形成方法
吉埈仍
案號 0911366312002-12-19IPC G03F7/42
光阻剝離用組合物及使用其之半導體裝置之製造方法
新力股份有限公司
案號 0911351522002-12-04IPC G03F7/42