IPC H01L21/00 專利列表
共 396 筆結果
半導體裝置的製造方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921185102003-07-07IPC H01L21/00
半導體裝置及其製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921183512003-07-04IPC H01L21/00
機台生產力追蹤系統及其追蹤方法與半導體機台生產力評估之系統
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921182842003-07-04IPC H01L21/00
光罩、光罩之製造方法及電子零件之製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921183432003-07-04IPC H01L21/00
半導體裝置及其製造方法
日商鎧俠股份有限公司
案號 0921179602003-07-01IPC H01L21/00
利用材料處理工具及效能數據的處理控制方法及系統
東京威力科創股份有限公司
案號 0921176032003-06-27IPC H01L21/00
半導體晶片安裝裝置以及安裝方法
新光電氣工業股份有限公司
案號 0921176072003-06-27IPC H01L21/00
半導體晶圓及其製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921174032003-06-26IPC H01L21/00
半導體裝置
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921172472003-06-25IPC H01L21/00
一種方法和裝置用來偵測或減少半導體製程中清潔流體內的氣體
應用材料股份有限公司
案號 0921170282003-06-23IPC H01L21/00
結晶化裝置、使用於結晶化裝置之光學構件、結晶化方法、薄膜電晶體、及顯示器
液晶先端技術開發中心股份有限公司
案號 0921170342003-06-23IPC H01L21/00
結晶化裝置、使用於結晶化裝置之光學構件、結晶化方法、薄膜電晶體之製造方法、及顯示器矩陣電路基板之製造方法
液晶先端技術開發中心股份有限公司
案號 0921170352003-06-23IPC H01L21/00
用於即時關鍵尺寸微負載控制之方法與系統
應用材料股份有限公司
案號 0921168982003-06-20IPC H01L21/00
形成基板之隆起接觸點之方法
英特爾公司
案號 0921168772003-06-20IPC H01L21/00
一種半導體晶圓表面清潔方法
鴻海精密工業股份有限公司
案號 0921165992003-06-18IPC H01L21/00
半導體裝置
日商鎧俠股份有限公司
案號 0921163922003-06-17IPC H01L21/00
半導體裝置
三菱電機股份有限公司
案號 0921163412003-06-17IPC H01L21/00
半導體裝置及其製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921159352003-06-12IPC H01L21/00
半導體裝置及其製造方法
東芝股份有限公司
案號 0921159752003-06-12IPC H01L21/00
快速排水清洗槽
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921159032003-06-11IPC H01L21/00