IPC H01L21/00 專利列表
共 396 筆結果
噴嘴裝置及基板之處理裝置
芝浦機械電子裝置股份有限公司
案號 0921157002003-06-10IPC H01L21/00
半導體裝置之製造方法及半導體裝置
東芝股份有限公司
案號 0921155422003-06-09IPC H01L21/00
積體電路製造廠之晶圓下貨計劃排程方法與積體電路產品製造方法及其積體電路產品
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921155112003-06-09IPC H01L21/00
富含氫之選擇性氧化的系統及方法
艾斯摩美國股份有限公司
案號 0921152882003-06-05IPC H01L21/00
在基板上轉移一層之方法
李天錫
案號 0921150352003-06-03IPC H01L21/00
基板處理裝置、基板處理方法及顯像裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921144452003-05-28IPC H01L21/00
用於偵測加工室中之薄膜沈積作用之方法及裝置
東京威力科創有限公司
案號 0921143902003-05-28IPC H01L21/00
防止凝結液污染基板之裝置與方法
友達光電股份有限公司
案號 0921144312003-05-28IPC H01L21/00
基板處理裝置及基板處理方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921143072003-05-27IPC H01L21/00
基板處理裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921141362003-05-26IPC H01L21/00
預測製程參數偏移之方法、系統以及其儲存媒體
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921136752003-05-21IPC H01L21/00
裝載室之抽氣系統及其操作方法
聯華電子股份有限公司
案號 0921135642003-05-20IPC H01L21/00
多室製造裝置和發光裝置之製造方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0921135152003-05-16IPC H01L21/00
處理基底之設備以及相關系統及方法
ＢＯＣ艾德華斯股份有限公司
案號 0921130332003-05-14IPC H01L21/00
加工方法、半導體裝置之製造方法及加工裝置
東芝股份有限公司
案號 0921130772003-05-14IPC H01L21/00
有機金屬化學氣相沈積反應器之承受器
克立公司
案號 0921128332003-05-12IPC H01L21/00
用於形成具有低損壞之低電阻率的超淺接面之方法
維瑞安半導體設備公司
案號 0921125512003-05-08IPC H01L21/00
形成積體電路之方法
億恆科技股份公司
案號 0921123762003-05-06IPC H01L21/00
廢棄晶片回收分離及純化之裝置及其方法
財團法人工業技術研究院
案號 0921121402003-05-02IPC H01L21/00
晶圓乾燥的方法與裝置
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921120482003-05-01IPC H01L21/00