IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
形成包括多個裝置之硒化鍺之方法以及形成包括多個結構之硒化銀的方法
美光科技公司
案號 0921022092003-01-30IPC H01L21/027
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921022442003-01-30IPC H01L21/027
一種半導體微影製程
聯華電子股份有限公司
案號 0921020722003-01-29IPC H01L21/027
曝光方法及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0921017762003-01-28IPC H01L21/027
液體材料氣化供給裝置
日本先進能量股份有限公司
案號 0921016532003-01-27IPC H01L21/02
防治光阻殘渣產生的方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921015742003-01-24IPC H01L21/027
用於液晶顯示器之薄膜電晶體基材及其製造方法
日進鑽石股份有限公司
案號 0921009182003-01-16IPC H01L21/02
光罩之製造方法及半導體積體電路裝置之製造方法
日立製作所股份有限公司
案號 0921008842003-01-16IPC H01L21/027
曝光方法及裝罝
液晶先端技術開發中心股份有限公司
案號 0921008492003-01-16IPC H01L21/027
微影裝置，裝置清潔方法，裝置製造方法及其所製造之裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921007762003-01-15IPC H01L21/027
薄膜電晶體液晶顯示器之儲存電容及其製造方法
友達光電股份有限公司
案號 0921004722003-01-10IPC H01L21/02
形成金屬薄膜之方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0911380052002-12-31IPC H01L21/02
清洗矽之表面的方法以及使用此清洗方法製造薄膜電晶體的方法
友達光電股份有限公司
案號 0911381232002-12-31IPC H01L21/02
形成半導體裝置之圖案的方法
海力士半導體有限公司
案號 0911371472002-12-24IPC H01L21/027
應用於積體電路之圖案化的方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0911371122002-12-24IPC H01L21/027
半導體元件之微圖案的形成方法
東部電子股份有限公司
案號 0911364442002-12-23IPC H01L21/027
光罩及半導體裝置製造方法
ＮＥＣ電子股份有限公司
案號 0911370002002-12-20IPC H01L21/027
氣體清除方法及曝光裝置、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0911367912002-12-20IPC H01L21/027
用以製造細微結構之無抗蝕劑微影方法
億恒科技公司
案號 0911368102002-12-20IPC H01L21/027
一種薄膜電晶體的製作方法
友達光電股份有限公司
案號 0911365802002-12-18IPC H01L21/02