IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
半導體裝置製造方法，利用該方法製造之半導體裝置，及微影裝置
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911365162002-12-18IPC H01L21/027
藥液供應裝置以及藥液供應方法
小金井股份有限公司
案號 0911363512002-12-17IPC H01L21/027
形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法
財團法人工業技術研究院
案號 0911364082002-12-17IPC H01L21/027
藥液供應裝置以及藥液供應裝置之排氣方法
小金井股份有限公司
案號 0911363522002-12-17IPC H01L21/027
微影模版和其形成及使用方法
美商恩智浦美國公司
案號 0911362572002-12-16IPC H01L21/027
製造半導體裝置之方法
海力士半導體有限公司
案號 0911358492002-12-11IPC H01L21/027
在１９３奈米微影技術中減少光阻劑氧化而退化之方法與系統
高級微裝置公司
案號 0911357802002-12-11IPC H01L21/027
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911355452002-12-09IPC H01L21/027
乾式蝕刻機台偵測方法
華邦電子股份有限公司
案號 0911354932002-12-06IPC H01L21/02
半導體裝置之製造方法
悠美瑟日本股份有限公司
案號 0911352562002-12-05IPC H01L21/027
光罩形成方法
精工愛普生股份有限公司
案號 0911353182002-12-05IPC H01L21/027
包含一電容器之配置
皇家飛利浦電子股份有限公司
案號 0911351562002-12-04IPC H01L21/02
臭氧處理裝置
住友精密工業股份有限公司
案號 0911350242002-12-03IPC H01L21/02
化學放大型光阻組成物、及使用此組成物之半導體裝置之製造方法與半導體基板
瑞薩電子股份有限公司
案號 0911351272002-12-03IPC H01L21/027
具有釔-鋁塗層的組件之處理室
應用材料股份有限公司
案號 0911349712002-12-02IPC H01L21/02
半導體功率裝置及其形成方法
恩智浦美國公司
案號 0911347802002-11-29IPC H01L21/027
對準圖案及其製造方法
ＮＥＣ電子股份有限公司
案號 0911349062002-11-29IPC H01L21/02
透明基板之改良微影製程
亞那克斯貝樂斯有限公司
案號 0911346102002-11-28IPC H01L21/027
機台裝置及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0911345912002-11-28IPC H01L21/027
微影裝置及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0911344692002-11-27IPC H01L21/027