IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
薄膜電晶體陣列基板及其微影製程與光罩設計
友達光電股份有限公司
案號 0921226052003-08-18IPC H01L21/027
光阻幫浦噴灑偵測系統
旺宏電子股份有限公司
案號 0921224242003-08-14IPC H01L21/02
具有對準記號之互補分割光罩、該互補分割光罩之對準記號之形成方法、使用該互補分割光罩所製造之半導體裝置及其製造方法
新力股份有限公司
案號 0921213862003-08-05IPC H01L21/027
開口之製造方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921213032003-08-04IPC H01L21/027
改善近接式曝光時產生之缺陷的曝光方法及其裝置
奇美電子股份有限公司
案號 0921213112003-08-04IPC H01L21/027
高深寬比圖案轉移製作方法
國立成功大學
案號 0921209302003-07-31IPC H01L21/027
減少在半導體裝置製造過程中圖案變形及光阻膜毒化之方法
格羅方德半導體公司
案號 0921209472003-07-31IPC H01L21/02
投影曝光系統
卡爾蔡司ＳＭＴ有限公司
案號 0921210692003-07-31IPC H01L21/027
晶圓批次加工系統及方法
晶圓大師股份有限公司
案號 0921209862003-07-31IPC H01L21/02
臭氧處理裝置
住友精密工業股份有限公司
案號 0921207902003-07-30IPC H01L21/02
介電層的製造方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0921207702003-07-30IPC H01L21/027
破壞晶片之方法
遠東技術學院
案號 0921203002003-07-25IPC H01L21/02
形成雙層抗蝕劑圖案
應用材料股份有限公司
案號 0921204652003-07-25IPC H01L21/027
繞射光學元件、照明光學裝置、曝光裝置以及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921203832003-07-25IPC H01L21/027
具有連接到真空室的真空標線片儲存庫之微影工具
ＡＳＭＬ控股公司
案號 0921201102003-07-23IPC H01L21/027
彩色濾光膜基板的製造方法
友達光電股份有限公司
案號 0921199392003-07-22IPC H01L21/027
電漿處理裝置及其控制方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921199842003-07-22IPC H01L21/02
模版形成方法
精碟科技股份有限公司
案號 0921198872003-07-21IPC H01L21/027
以交替式相位移原理改善接觸洞圖案解析度之方法
大陸商合肥晶合集成電路股份有限公司
案號 0921198722003-07-21IPC H01L21/027
一種在晶圓接合後維持微影對準精密度之方法
亞太優勢微系統股份有限公司
案號 0921197172003-07-18IPC H01L21/027