IPC H01L21/02 專利列表
共 380 筆結果
微影裝置，元件製造方法，及由其製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921250332003-09-10IPC H01L21/027
對準基板之方法，電腦可讀取媒體，元件製造方法及其所製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921251182003-09-10IPC H01L21/027
適用於積體電路製造上增進微影製程空間之方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921249382003-09-09IPC H01L21/027
在半導體製程中用於形成次微影術開口的方法
希里康儲存技術公司
案號 0921247422003-09-08IPC H01L21/027
薄型半導體晶片之製造方法
新光電氣工業股份有限公司
案號 0921244522003-09-04IPC H01L21/02
基底及其製造方法
佳能股份有限公司
案號 0921243762003-09-03IPC H01L21/02
製作晶圓試片的方法及藉其評估光罩圖案間疊對位準（ＭＡＳＫ ＲＥＧＩＳＴＲＡＴＩＯＮ）的方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921241852003-09-02IPC H01L21/027
帶狀工件之搬運裝置
牛尾電機股份有限公司
案號 0921241162003-09-01IPC H01L21/027
半導體裝置之製造方法
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921240802003-09-01IPC H01L21/027
溫度控制方法及裝置、曝光方法及裝置、以及元件製造方法
尼康股份有限公司
案號 0921239012003-08-29IPC H01L21/027
對準方法、對準基板、對準基板之製造方法、曝光方法、曝光裝置及光罩之製造方法
新力股份有限公司
案號 0921239502003-08-29IPC H01L21/027
處理裝置、載置台及處理方法
東京威力科創股份有限公司
案號 0921240422003-08-29IPC H01L21/02
半導體晶圓之處理裝置
瑞薩科技股份有限公司
案號 0921237152003-08-28IPC H01L21/02
半導體裝置及半導體製造管理系統
日立全球先端科技股份有限公司
案號 0921235702003-08-27IPC H01L21/02
光罩缺陷檢查方法、半導體裝置之製造方法、光罩缺陷檢查裝置、缺陷影響度地圖作成方法及電腦程式製品
日商鎧俠股份有限公司
案號 0921232812003-08-25IPC H01L21/027
標記位置檢測裝置、標記位置檢測方法、重疊狀態測定裝置、以及重疊狀態測定方法
尼康股份有限公司
案號 0921231182003-08-22IPC H01L21/027
降低鄰近效應之啞圖案及其使用方法
億恆科技股份公司
案號 0921232392003-08-22IPC H01L21/027
微細圖像之形成方法
東京應化工業股份有限公司
案號 0921230472003-08-21IPC H01L21/027
曝光裝置之檢查方法及曝光裝置
東芝股份有限公司
案號 0921230112003-08-21IPC H01L21/027
光阻劑塗佈方法及光阻劑塗佈裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921227732003-08-19IPC H01L21/027