IPC C23C14/34 專利列表
共 52 筆結果
物理氣相沉積裝置
友達光電股份有限公司
案號 0921139092003-05-22IPC C23C14/34
製造具最佳化內應力的薄膜之濺鍍製程與設備
瑞士商艾維太克股份有限公司
案號 0921138992003-05-22IPC C23C14/34
光記錄媒體之反射層形成用銀合金濺鍍靶
三菱綜合材料股份有限公司
案號 0921133762003-05-16IPC C23C14/34
以物理氣相沉積法鋁化機械元件之方法
私立逢甲大學
案號 0921070802003-03-28IPC C23C14/34
噴濺靶及其製造方法
東曹股份有限公司
案號 0921043042003-02-27IPC C23C14/34
電漿處理裝置
佳康科技有限公司
案號 0921030002003-02-13IPC C23C14/34
在濺鍍膜之均平度優異之磁控濺鍍用高純度鎳或鎳合金靶及其製造方法
ＪＸ金屬股份有限公司
案號 0911352632002-12-05IPC C23C14/34
減少結球發生量之ＩＴＯ濺鍍靶
ＪＸ金屬股份有限公司
案號 0911335872002-11-18IPC C23C14/34
濺鍍設備
ＴＭ科技股份有限公司
案號 0911335162002-11-15IPC C23C14/34
濺鍍裝置
ＴＭ科技股份有限公司
案號 0911335172002-11-15IPC C23C14/34
織構化│介穩定的鋁合金濺射靶
普雷瑟技術股份有限公司
案號 0911331562002-11-12IPC C23C14/34
濺鍍靶及其製造方法
三井金屬鑛業股份有限公司
案號 0921308562000-03-02IPC C23C14/34