IPC G03F7/00 專利列表
共 134 筆結果
具有波形表面拓樸之薄膜及其製造方法
羅利克股份公司
案號 0921248642003-09-09IPC G03F7/004
電子束微影用高敏感度及高溶解度光阻劑
英飛凌科技股份有限公司
案號 0921245152003-09-04IPC G03F7/00
離子投影微影用高敏感度及高溶解度光阻劑
億恆科技股份公司
案號 0921245142003-09-04IPC G03F7/004
圖案成形模具之製造方法
服部正
案號 0921239092003-08-29IPC G03F7/00
圖案形成用放射性敏感負型光阻劑組成物及圖案形成方法
東洋合成工業股份有限公司
案號 0921239062003-08-29IPC G03F7/004
苯磺酸鹽與光阻組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921232522003-08-25IPC G03F7/004
著色感光性樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921231232003-08-22IPC G03F7/004
三維光阻結構的製作方法
財團法人國家實驗研究院
案號 0921231122003-08-22IPC G03F7/00
著色光敏樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921207592003-07-30IPC G03F7/004
著色光敏樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921204862003-07-28IPC G03F7/004
導光裝置
濱松赫德尼古斯股份有限公司
案號 0921202122003-07-24IPC G03F7/00
抗蝕圖案加厚材料，抗蝕圖案及其製造方法，及半導體裝置以及其製造方法
富士通股份有限公司
案號 0921200472003-07-23IPC G03F7/008
微影裝置及元件製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921191372003-07-14IPC G03F7/00
在壓印微影術處理期間形成不連續薄膜的方法
分子壓模公司
案號 0921188812003-07-10IPC G03F7/00
利用電場之用於壓印微影術的方法及系統
分子壓模公司
案號 0921188732003-07-10IPC G03F7/00
半導體雷射硬化型樹脂組成物及使用此組成物之光阻圖案形成方法
關西油漆股份有限公司
案號 0921186652003-07-09IPC G03F7/004
光阻照射方法
億恆科技股份公司
案號 0921186402003-07-08IPC G03F7/00
感光性樹脂組成物及使用其之感光性元件
日立化成工業股份有限公司
案號 0921183792003-07-04IPC G03F7/004
著色光敏樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921181502003-07-03IPC G03F7/004
聚羧酸樹脂及含有該聚羧酸樹脂之感光性樹脂組成物
住友化學工業股份有限公司
案號 0921181512003-07-03IPC G03F7/004